Hệ thống tản nhiệt Vapor-X được Sapphire chính thức giới thiệu lần đầu tiên vào năm 2007 trên VGA HD 3870 ATOMIC Edition và ngay lập tức đã tạo lên tiếng vang lớn, bắt đầu một xu thế mới cho các giải pháp tản nhiệt đồ họa, các sản phẩm tiếp theo cũng gặt hái thành công ấn tượng không kém là TOXIC HD 3870 và HD 4870.

Vapor-X với nền tảng là công nghệ Vapor Chamber sử dụng một thiết kế khác của công nghệ ống dẫn truyền nhiệt (heatpipe) phổ biến, các chất lỏng đặc biệt sẽ tiếp xúc với bề mặt nhiệt độ cao sau đó luân chuyển theo định hướng của nhà thiết kế để lan tỏa nhiệt độ ra các vùng khác với tốc độ nhanh nhất có thể, giải quyết vấn đề nhiệt độ hiệu quả mà đơn giản hơn.

Vapor-X của Sapphire được thiết kế dạng phiến mỏng chứ không phải dạng ống như truyền thống, do đó có thể áp sát và lấy đi nhiệt độ tỏa ra từ các GPU nhanh nhất có thể và không thông qua các bước trung gian, do đó nhiệt độ của toàn bộ GPU được giải quyết triệt để hơn kể cả so với việc áp sát hàng loạt ống kim loại vào GPU, nó loại trừ hoàn toàn các vùng trống.

Nói cách khác, về hình thức sẽ tương tự như việc dùng các giải pháp tản nhiệt chất lỏng khác là áp ngay toàn bộ bề mặt vào GPU và lấy đi nhiệt độ nhanh nhất có thể, nhưng ở đây Sapphire Vapor-X vẫn áp dụng phần còn của hệ thống tản nhiệt khí, giúp hệ thống vẫn gọn gàng trong khi hiệu quả tản nhiệt tốt hơn.

Ngày nay, công nghệ Vapor-X của Sapphire vẫn tiếp tục được cải tiến và phát triển, nó được kết hợp thêm các giải pháp khác tiên tiến hơn như công nghề hàn và sắp đặt các lá nhôm, kết hợp song song với các heatpipe cũng như quạt làm mát có thiết kế lõi tốt hơn. Mục tiêu cuối cùng của công nghệ là làm giảm nhiệt độ hoạt động của GPU càng nhiều càng tốt, càng nhanh càng tốt và càng ổn định càng tốt, đó cũng chính là những mục tiêu ban đầu và cơ bản của các công nghệ được dùng cho các hệ thống máy chủ, máy trạm cao cấp.

Theo Vnmedia.